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New Materials
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Cadastrado em 21/12/2013 às 9h40

Esta área de pesquisa representa a base da maioria dos trabalhos desenvolvidos pelo GNMD, pois os dispositivos fabricados no grupo utilizam os materiais estudados e produzidos no próprio grupo. Além disso envolve duas áreas :     Filmes finos e Materiais Nanoestruturados.

  • Filmes Finos:  O objetivo é estudar a obtenção e propriedades de materiais obtidos PECVD e Sputtering, procurando estabelecer a relação   entre as condições de crescimento das películas e as propriedades do material, e visando sua aplicação em diversos tipos de dispositivos microeletrônicos (semicondutores, ópticos, electro-ópticos, fotovoltaicos, MEMS, microfluídica, etc.)  

        Entre os principais materiais estudados estão  o silício amorfo hidrogenado (a-Si:H), o carbeto de silício amorfo hidrogenado (a-SiC:H), o óxido de silício (SiO2) e oxinitreto de silício (SiOxNy), o nitreto de carbono (CxNy) e mais recentemente, o óxido de titânio (TiO2), oxinitreto de titânio (TiOxNy), o nitreto de alumínio (AlNx) e o Barium Stroncium Titanatum (BST), estes obtidos por Sputtering. Em todos esses trabalhos, procuramos controlar as propriedades dos materiais, como a composição química, morfologia, estrutura atômica, gap de energia, estabilidade química, eficiência de dopagem e dureza mecânica.

  • Materiais Nanoestruturados: Estes materiais também têm sido obtidos na forma de filmes finos crescidos por PECVD e Sputtering  (como multicamadas e nanoclusters de ligas de Si, SiC, SiO2, etc.), porém mais recentemente foram iniciados trabalhos utilizando técnicas de eletrodeposição para obter nanotubos de TiO2  e CVD para obter e nanotubos de carbono (NC) e fulereno obtido.