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Atualização: Ter, 20 de Outubro de 2009 às 16h26 | Por: Katia Franklin Albertin | RSS
Filmes de TiO2 e TiOxNy obtidos pela técnica de rf magnetron sputtering

Este projeto visa a deposição e caracterização de filmes de óxido de titânio (TiO2) e oxinitreto de titânio (TiOxNy) com diferentes concentrações de nitrogênio. A idéia é correlacionar as propriedades estruturais, elétricas, dielétricas, ópticas e a estabilidade termodinâmica com a composição química do material. Esta proposta vai de encontro com as linhas de pesquisa em dispositivos semicondutores, óptica integrada e de dispositivos micro-eletro mecânicos (MEMS) do Grupo de Novos Materiais e Dispositivos (GNMD).

Tags: sputtering, óxido de titânio
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