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Atualização: Dom, 27 de Setembro de 2009 às 23h43 | Por: Marcelo Nelson Páez Carreño | RSS
Micropontas de Silício para Emissão de Elétrons por efeito de Campo
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Responsável: - Murilo Zubioli Mielli
Coordenador: - Marcelo Nelson Páez Carreño

MIcropontas de Si

O objetivo deste projeto é fabricar e caracterizar, tanto morfológica como eletricamente, micropontas de silício com eletrodos de polarização integrados. O processo de fabricação das micropontas envolve a corrosão anisotrópica do substrato de Si através de aberturas feitas em um filme de mascaramento de oxinitreto de silício (SiOxNy), obtido pela técnica de PECVD. Além de ser usado como material de mascaramento, definindo a geometria das micropontas, o filme de SiOxNy serve de suporte mecânico para os eletrodos de polarização de cromo, obtidos por Sputtering.

     Com o intuito de aprofundar o entendimento de formação das micropontas e caracterizá-las eletricamente, as atividades foram divididas em três frentes de trabalho intimamente relacionadas e desenvolvidas paralelamente:

  1. Fabricação de micropontas de Si com eletrodos integrados, efetuando os processos de deposição e fotolitografia dos filmes de SiOxNy e Cr, e a corrosão anisotrópica do silício em solução de KOH;
  2. Caracterização morfológica das micropontas fabricadas: determinação de planos cristalográficos, geometria final, aspecto do topo, distância típica entre o topo e o eletrodo de polarização, por meio da análise em microscópio óptico e MEV;
  3. Caracterização elétrica das micropontas, com auxílio de um “set up” experimental que emprega uma câmara de vácuo, obtendo curvas I x V de micropontas polarizadas em grupo e individualmente.

Este trabalho está vinculado ao projeto temático FAPESP (Processo 00/10027-3) “Produção, Caracterização e Aplicações de Ligas Semicondutoras e Isolantes”, que tem entre seus objetivos, o desenvolvimento de MEMS baseados em materiais PECVD.

 

Tags: MEMS, Micropontas, Silício
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