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Atualização: Sáb, 05 de Junho de 2010 às 14h49 | Por: Marcelo Nelson Páez Carreño | RSS
Nitreto de Boro preparado pela técnica de PECVD em baixas temperaturas

O objetivo destas pesquisas foi estudar as condições de deposição e sua relação com as propriedades mecânicas, ópticas e estruturais  de filmes de nitreto de boro (BN) obtidos por “Plasma Enhanced Chemical Vapor Deposition” (PECVD) em baixas temperaturas.  Estas pesquisas foram desenvolvidas através do projeto de Pós-doutarado “Nitreto de Boro  preparado  pela técnica de  PECVD em baixas  temperaturas”,  financiado pela FAPESP (Processo No 98/01766-5) e desenvolvido pelo Dr. Johnny Vilcarromero Lopes. Os principais resultados destas pesquisas foram descritos nos seguintes trabalhos :

  1. “Mechanical properties of boron nitride thin films obtained by rf-PECVD at low temperatures", . Vilcarromero, M.N.P. Carreño and I. Pereyra, Superficie e vacio, mexico, DF, vol. 9, (1999) p.104-107.
  2. "Mechanical properties of boron nitride thin films obtained by  rf-pecvd at low temperatures”, J. Vilcarromero, M.N.P. Carreño and I. Pereyra, Thin Solid Films, Vol.373/1-2 (2000) 273-276.
  3. “Preparation and Characterization of Nanocrystalline h-BN prepared by PECVD Method”, J. Vilcarromero, M.N.P. Carreño and I. Pereyra, Brazilian Journal of  Physics, Vol. 32, no.2A  (2002) 372-375.

Tags: Nitreto de Boro, BN
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